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首尔国立科技大学JunsukRho感化及其团队开辟了一种简就可拓展的无光刻建立本领，定名为易责罚电极材料嵌入动态内刻纳米图形，以临盆高度耐用的电子产物。该结果以“Solution-processableelectrode-materialembeddingindynamicallyinscribednanopatterns(SPEEDIN)forcontinuousfabricationofdurableflexibledevices”为题发布在《MicrosystemsNanoengineering》上。

Volume7,Articlenumber:74()